youtube外国人评论中国euv光刻机（外国网友评论中国发射空间站）

我国唯一一台euv光刻机现状

在其中就包含光刻技术的缺少，中国往往一直无法完成集成芯片的实用化生产制造，便是由于光刻技术的总数匮乏，并且直到如今连一台高档的EUV光刻技术也没有。

%的市场份额。ASML作为全球最牛的光刻机巨头，占了全球70%+的市场份额，而在EUV光刻机市场，份额更是高达63%市场份额。中国大陆作为全球成长最快的半导体市场，不断的在进行晶圆扩产，所以对ASML的光刻机需求非常大。

例如，两家日本公司JSR和信越化学，它们主要供应用于控制EUV光刻机的光刻胶，EUV光刻机占光刻机市场的90％。这种实际上的垄断地位甚至使日本可以通过这种材料的供应来限制韩国，这个情况已经在一年前的芯片市场上发生过。

对于低端芯片用户而言，精度90nm的国产光刻机必须存在。很多人说起芯片制程，言必2nm、5nm、7nm EUV，至于90nm制程工艺，认为根本没有存在的必要。其实，这是一个非常片面的认知。

中低端就是睁一只眼闭一只眼，上海微电子公司生产的光刻机就不在打压的范围内，可能是技术相差太多了不放在眼里。

原因一：荷兰的ASML并不是一家白手起家的公司，而是从著名电子制造商飞利浦，独立出来的一个公 司，背后肯定有相关的人员，经济上的资助。

能造5nm芯片的euv光刻机

什么是EUV光刻机？EUV（Extreme Ultraviolet）光刻机是一种用于制造高端芯片的先进设备。与传统光刻机不同的是，EUV光刻机使用的是极紫外光源，具有更短的波长和更高的分辨率，能够制造尺寸更小的芯片，如5nm芯片。

通过在芯片表面上沉积金属，可以形成芯片元件之间的电路连接。这是制造工艺中的一个重要步骤。5 光刻和刻蚀 在芯片制造的最后阶段，使用EUV光刻机对芯片进行刻蚀。

能造光刻机的国家有：荷兰、日本、美国、韩国、中国。荷兰 荷兰是高端光刻机生产的领导者，该国ASML是全球最大的光刻机制造商，其高端市场份额占比超过80%。

duv光刻机和euv光刻机的区别是?

1、光刻机是半导体产业的关键设备，其中是EUV extra 超高特殊紫外线是先进尖端等级用於10奈米以下；DUV deeper 深度紫外线较为中阶约20-100奈米，区别非常大。

2、duv就是深紫外光，主要是指波长小于i-line365nm的紫外光，一般工业上有193arf和248nmkrf的的激光。用的都是化学增幅型的光刻胶。

3、很多人认为这次收购会拯救中国的芯片行业。但是真的是这样吗？长期以来，由于光刻机的特殊性，中国网民甚至将其视为半导体行业的生命线。但其实光刻机只是芯片生产线的一部分。还是一个制作环节。

4、与其希望对方如何行事，不如自己努力前行，把握好核心技术的研发，走适合自己的路吧。最后普及一下EUV光刻机和DUV光刻机：光谱大致分为红外线、可见光和紫外线、X射线、伽马射线等。

5、Duv光刻机能生产最小线宽（即最小特征尺寸）的大小通常在100纳米左右，但是一些高端的Duv光刻机可以生产出更小的线宽，最小甚至可以到50纳米以下。

euv光刻机难还是原子弹难?

1、从技术难度和供应链系统的角度来看，光刻机的制造更难。 特别是高端光刻机的制造不是一个国家的制造系统和科研能力能达到的。原子弹的制造理论和方法并不复杂，特别是在上世纪各国相继制造核弹后，核弹的制造方法不再是秘密。

2、另一方面，光刻机毕竟只是生产工具，不像原子弹这样的国之重器，可以不计成本靠举国之力进行制造，光刻机只是芯片制造中的一个环节，还需要上下游产业链的支持，能造出来不稀奇，重要的是还能靠它赚钱。

3、综述：光刻机。造光刻机的难度确实要比原子弹还要大，并不是原理技术有多么难，而是我们的工艺水平达不到。

4、要知道，目前全球掌握原子弹制造技术的国家都有九个了，而掌握高精度光刻机制造技术的却只有两个，这也难怪有人说光刻机比原子弹更难造。

5、二点原因啊，光刻机它毕竟只是一种工具，不像原子弹这种国之重器啊，我们可以不计成本，靠举国之力进行制造。其实呢光刻机咱们国家也不是没有啊，只是说它的水平跟国际水平还是有一定的差。